The 355NM紫外線 (UV) レーザ1 材料処理で広く使用されています, 生物医学的アプリケーション, および分光法. それは雇用されます ダイオードポンプ固体状態 (DPSS) テクノロジー2, NDを利用します:YAG結晶および非線形周波数干渉結晶は、複雑な光学プロセスを通じて電気エネルギーを355NM UVレーザー光に変換する. この記事は、構造の詳細な紹介を提供します, 原則, アプリケーション, と 熱散逸計算3 355NM UVレーザーの, 熱管理に適したチラーを選択するためのガイドラインとともに.
355nmの紫外線レーザーは何ですか?
レーザーの基本原理
The 355NM UVレーザー4 に基づいています 周波数拡大技術5 NDの:YAGレーザー, マルチステージの非線形光学プロセスを介して、1064NM赤外線レーザーをUVスペクトルに変換する. 基本的な手順には含まれます:
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ポンピングプロセス: 808nmのポンプダイオードがndを興奮させます:Yagクリスタル, 1064nmレーザーの生成.
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第二高調波生成 (shg)6: 1064NMレーザーはKTPまたはBBOクリスタルを通過します, その周波数を2倍にして、532nmの緑色の光を生成します.
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合計周波数生成 (SFG): 532nmと残留1064nmライトは非線形結晶に入ります, 結合して形成 355NM UVレーザー4 ライト.
355nmの紫外線レーザーの特徴
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355NM紫外線レーザーの構造
主要コンポーネント
あ 355NM UVレーザー4 通常、次の重要なコンポーネントで構成されています:
成分 | 関数 | 典型的なパラメーター |
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Nd:Yagクリスタル10 | 基本的な1064nmレーザーを生成します | 1064NM波長, 70% 変換効率 |
ポンプダイオード | 808NMライトポンプnd:うん | 50% 光電子変換効率 |
KTP/BBO非線形結晶11 | 1064NM→532NM周波数倍, 532nm + 1064NM→355NM | の周波数変換効率 50% |
光キャビティ | レーザー振動と増幅 | 高反射および部分伝送ミラー |
温度制御システム | 最適な結晶動作温度を維持します | TEC冷却, ±0.1°Cの精度 |
電源 & コントロールエレクトロニクス | 電力とレーザー出力制御を提供します | 100-240VAC入力 |
これらのコンポーネントは協力して電気エネルギーを355nmのUV光に変換します, 精密製造で広く使用されています, 熱電半導体技術にもいくつかの制限があります, およびその他のフィールド.
355NM紫外線レーザーのアプリケーション
1. 精密処理
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PCB回路基板マーキング12: 高エネルギーUVレーザーは、材料を損傷することなくPCBボードで高精度のマークを可能にします.
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ガラスエッチング: UVライトは、ガラス表面を直接処理できます, エレクトロニクスおよび光学産業で広く使用されています.
2. 生物医学的アプリケーション
3. 半導体 & マイクロエレクトロニクス
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シリコンウェーハ処理14: UVレーザーは、ミクロンスケールの汚染物質を除去します, チップ製造の精度の強化.
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OLEDディスプレイ処理: 柔軟なスクリーンレーザー修理に使用されます, 生産利回りの改善.
355nmの紫外線レーザーの熱散逸計算
熱計算のための基本式
レーザーによって生成された熱は、次の式を使用して計算できます:
Q = P_elec – P_opt
どこ:
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P_ELEC =電力を入力します
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p_opt = 355nmでの出力光電力
実験データに基づいています, NS 効率15 各段階は次のとおりです:
全体的な 効率15 電力から 355NM光学電力16 ほぼです 8.75%, 意味 91.25% 入力エネルギーが熱に変換されます. 例えば:
熱源分析
熱源 | 計算方法 | 熱寄与 |
---|---|---|
ポンプダイオード損失 | 50% 電力の | 50W (100w入力) |
Nd:Yagクリスタル損失 | 30% 808nmの光損失 | 15W (100w入力) |
shg & SFG損失 | 50% 周波数変換の損失 | 26.25W (100w入力) |
高出力レーザー (24W以上) 必要とする 水冷システム18 長期的な安定した動作を確保するため.
355nmの紫外線レーザーのチラーを選択する方法?
1. 冷却要件計算
チラーの選択はに基づいている必要があります 熱負荷計算19. レーザーの総熱負荷が仮定します Q = 500W, the chiller’s minimum 冷却能力20 満足する必要があります:
P_Cooling≥Q
さらに, a 安全マージン21 考慮する必要があります, そしてa 冷却能力20 少なくともの 600W 推奨されます.
2. 重要なパラメーター比較
パラメーター | 選択標準 | 説明 |
---|---|---|
冷却力 | ≥ 1.2 ×レーザー熱負荷 | 冷却マージンを保証します |
温度制御精度 | ±0.1°C以上 | レーザーの安定性に影響します |
水流 | ≥10l/min | 冷却効率に影響を与えます |
環境に優しい冷媒 | R134AまたはR410A | 環境基準を満たしています |
3. 推奨されるチラーモデル
- Q580シリーズレーザーチラー (580W)
* このミニチュアコンプレッサーを備えたチラーには、以下のような利点があります。: ±0.1℃
* Cooling method: マイクロDC可変周波数コンプレッサー冷却
* これは、冷却対象から冷媒への熱交換媒体として機能します: 10W-20W UVレーザー冷却に適しています
* Water pump head: 20m, 流量24L/min
- M160シリーズ産業チラー (1600W)
* に適し 高出力 (>30W) UVレーザー
* 用途 R410A環境に優しい冷媒23
右のチラーを選択すると、レーザーの安定性が大幅に向上します, 寿命を延ばします, 長期的なメンテナンスコストを削減します.
ミニチュアロータリー冷凍コンプレッサーの世界的パイオニア
355NM UVレーザーのコアコンポーネントにはNDが含まれています:Yagクリスタル, 非線形周波数干渉結晶, 精密温度制御システム. エネルギー変換効率が低いことを考えると, 91.25% 入力の電力は熱に変換されます24, 効果的にします 熱管理25 不可欠. 高出力レーザーは通常、水冷を使用します, など Q580またはM160シリーズチラー26, 最適な動作温度を維持し、長期的な安定性を確保するため. 実際のアプリケーションで, ユーザーは、デバイスのパフォーマンスと寿命を強化するために、熱散逸計算に基づいて適切な冷却ソリューションを選択する必要があります.
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さまざまな分野で35NM UVレーザーの多様なアプリケーションを探索してください, enhancing your understanding of their significance and utility. ↩
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Learn about DPSS technology to grasp the innovative methods behind laser generation and its advantages in various applications. ↩
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レーザーシステムにおける効果的な熱管理には、熱散逸計算を理解することが重要です, 最適なパフォーマンスと寿命を確保. ↩
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355nmのUVレーザーの用途を探索することで、さまざまな業界での汎用性に関する洞察を提供できます。, enhancing your understanding of this technology. ↩ ↩ ↩
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SHGについて学ぶことは、レーザー技術におけるその重要な役割を明らかにします, 特に周波数変換プロセスで, which is essential for advanced applications. ↩
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ndの機能を理解する:YAG crystals in lasers can deepen your knowledge of laser technology and its applications. ↩
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DNAシーケンスにおけるUVレーザーの役割を発見します, boosting sensitivity and reliability in genetic research. ↩
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レーザー性能を最適化し、損傷を防ぐためには、熱生成を理解することが重要です. 詳細な洞察については、このリンクを調べてください. ↩ ↩
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これらのチラーを探索すると、高出力レーザーに最適な冷却ソリューションを選択するのに役立ちます, パフォーマンスと安定性の向上. ↩