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355NM紫外線レーザーの包括的な分析: 原則, 特徴, およびアプリケーション

The 355NM紫外線 (UV) レーザ1 材料処理で広く使用されています, 生物医学的アプリケーション, および分光法. それは雇用されます ダイオードポンプ固体状態 (DPSS) テクノロジー2, NDを利用します:YAG結晶および非線形周波数干渉結晶は、複雑な光学プロセスを通じて電気エネルギーを355NM UVレーザー光に変換する. この記事は、構造の詳細な紹介を提供します, 原則, アプリケーション, と 熱散逸計算3 355NM UVレーザーの, 熱管理に適したチラーを選択するためのガイドラインとともに.


355nmの紫外線レーザーは何ですか?

レーザーの基本原理

The 355NM UVレーザー4 に基づいています 周波数拡大技術5 NDの:YAGレーザー, マルチステージの非線形光学プロセスを介して、1064NM赤外線レーザーをUVスペクトルに変換する. 基本的な手順には含まれます:

  1. ポンピングプロセス: 808nmのポンプダイオードがndを興奮させます:Yagクリスタル, 1064nmレーザーの生成.

  2. 第二高調波生成 (shg)6: 1064NMレーザーはKTPまたはBBOクリスタルを通過します, その周波数を2倍にして、532nmの緑色の光を生成します.

  3. 合計周波数生成 (SFG): 532nmと残留1064nmライトは非線形結晶に入ります, 結合して形成 355NM UVレーザー4 ライト.

355NM紫外線レーザー

355nmの紫外線レーザーの特徴

  • 短い波長7: UV光のエネルギー密度が高いため、精密処理や生物医学的アプリケーションに最適です.

  • 高い単色8: 非常に狭いスペクトルライン幅は、高精度アプリケーションを可能にします.

  • 低熱衝撃9: 短いパルスモードは、熱拡散を減らします, 処理品質の向上.

    • -

355NM紫外線レーザーの構造

主要コンポーネント

355NM UVレーザー4 通常、次の重要なコンポーネントで構成されています:

成分 関数 典型的なパラメーター
Nd:Yagクリスタル10 基本的な1064nmレーザーを生成します 1064NM波長, 70% 変換効率
ポンプダイオード 808NMライトポンプnd:うん 50% 光電子変換効率
KTP/BBO非線形結晶11 1064NM→532NM周波数倍, 532nm + 1064NM→355NM の周波数変換効率 50%
光キャビティ レーザー振動と増幅 高反射および部分伝送ミラー
温度制御システム 最適な結晶動作温度を維持します TEC冷却, ±0.1°Cの精度
電源 & コントロールエレクトロニクス 電力とレーザー出力制御を提供します 100-240VAC入力

これらのコンポーネントは協力して電気エネルギーを355nmのUV光に変換します, 精密製造で広く使用されています, 熱電半導体技術にもいくつかの制限があります, およびその他のフィールド.

主なコンポーネント


355NM紫外線レーザーのアプリケーション

1. 精密処理

  • PCB回路基板マーキング12: 高エネルギーUVレーザーは、材料を損傷することなくPCBボードで高精度のマークを可能にします.

  • ガラスエッチング: UVライトは、ガラス表面を直接処理できます, エレクトロニクスおよび光学産業で広く使用されています.

2. 生物医学的アプリケーション

  • DNAシーケンス13: 355NM UVレーザーは、高感度DNA検出のために蛍光色素を励起します.

  • 細胞操作: UV光は、細胞構造を正確に標的とします, 光遺伝学の研究を促進します.

3. 半導体 & マイクロエレクトロニクス

  • シリコンウェーハ処理14: UVレーザーは、ミクロンスケールの汚染物質を除去します, チップ製造の精度の強化.

  • OLEDディスプレイ処理: 柔軟なスクリーンレーザー修理に使用されます, 生産利回りの改善.

355NM紫外線レーザーのアプリケーション


355nmの紫外線レーザーの熱散逸計算

熱計算のための基本式

レーザーによって生成された熱は、次の式を使用して計算できます:

Q = P_ELEC - P_OPT

どこ:

  • P_ELEC =電力を入力します

  • p_opt = 355nmでの出力光電力

実験データに基づいています, NS 効率15 各段階は次のとおりです:

全体的な 効率15 電力から 355NM光学電力16 ほぼです 8.75%, 意味 91.25% 入力エネルギーが熱に変換されます. 例えば:

加熱力を計算します

熱源分析

熱源 計算方法 熱寄与
ポンプダイオード損失 50% 電力の 50W (100w入力)
Nd:Yagクリスタル損失 30% 808nmの光損失 15W (100w入力)
shg & SFG損失 50% 周波数変換の損失 26.25W (100w入力)

高出力レーザー (24W以上) 必要とする 水冷システム18 長期的な安定した動作を確保するため.


355nmの紫外線レーザーのチラーを選択する方法?

1. 冷却要件計算

チラーの選択はに基づいている必要があります 熱負荷計算19. レーザーの総熱負荷が仮定します Q = 500W, チラーの最小 冷却能力20 満足する必要があります:

P_Cooling≥Q

さらに, a 安全マージン21 考慮する必要があります, そしてa 冷却能力20 少なくともの 600W 推奨されます.

2. 重要なパラメーター比較

パラメーター 選択標準 説明
冷却力 ≥ 1.2 ×レーザー熱負荷 冷却マージンを保証します
温度制御精度 ±0.1°C以上 レーザーの安定性に影響します
水流 ≥10l/min 冷却効率に影響を与えます
環境に優しい冷媒 R134AまたはR410A 環境基準を満たしています

3. 推奨されるチラーモデル

  • Q580シリーズレーザーチラー (580W)

* このミニチュアコンプレッサーを備えたチラーには、以下のような利点があります。: ±0.1℃

* 冷却方法: マイクロDC可変周波数コンプレッサー冷却

* これは、冷却対象から冷媒への熱交換媒体として機能します: 10W-20W UVレーザー冷却に適しています

* ウォーターポンプヘッド: 20m, 流量24L/min

  • M160シリーズ産業チラー (1600W)

* に適し 高出力 (>30W) UVレーザー

* 自動水補充システム22 拡張操作用

* 用途 R410A環境に優しい冷媒23

Q580&M160

右のチラーを選択すると、レーザーの安定性が大幅に向上します, 寿命を延ばします, 長期的なメンテナンスコストを削減します.


ミニチュアロータリー冷凍コンプレッサーの世界的パイオニア

355NM UVレーザーのコアコンポーネントにはNDが含まれています:Yagクリスタル, 非線形周波数干渉結晶, 精密温度制御システム. エネルギー変換効率が低いことを考えると, 91.25% 入力の電力は熱に変換されます24, 効果的にします 熱管理25 不可欠. 高出力レーザーは通常、水冷を使用します, など Q580またはM160シリーズチラー26, 最適な動作温度を維持し、長期的な安定性を確保するため. 実際のアプリケーションで, ユーザーは、デバイスのパフォーマンスと寿命を強化するために、熱散逸計算に基づいて適切な冷却ソリューションを選択する必要があります.



  1. さまざまな分野で35NM UVレーザーの多様なアプリケーションを探索してください, 彼らの重要性と有用性についてのあなたの理解を高めます.

  2. レーザー生成の背後にある革新的な方法とさまざまなアプリケーションでのその利点を把握するためのDPSSテクノロジーについて学ぶ.

  3. レーザーシステムにおける効果的な熱管理には、熱散逸計算を理解することが重要です, 最適なパフォーマンスと寿命を確保.

  4. 355nmのUVレーザーの用途を探索することで、さまざまな業界での汎用性に関する洞察を提供できます。, このテクノロジーの理解を高めます.

  5. 頻度拡大技術を理解することで、レーザーメカニックとその革新的なアプリケーションに関する知識が深まり、最新のテクノロジーにおけるその革新的なアプリケーションが深まります。.

  6. SHGについて学ぶことは、レーザー技術におけるその重要な役割を明らかにします, 特に周波数変換プロセスで, これは、高度なアプリケーションに不可欠です.

  7. このリンクを探索して、短い波長UVレーザーが精密処理と生物医学分野にどの程度革新されているかを理解する.

  8. さまざまなレーザーアプリケーションで精度を達成する際の高単色性の重要性を発見する.

  9. 熱衝撃が低いことで、レーザー技術の処理品質と効率がどのように向上するかを学びます.

  10. ndの機能を理解する:レーザーのYAG結晶は、レーザー技術とそのアプリケーションに関する知識を深めることができます.

  11. KTP/BBOの非線形結晶について学ぶことは、レーザー周波数変換の複雑さと特定の波長の生成におけるその重要性を把握するのに役立ちます.

  12. UVレーザーがPCBマーキングの精度を高める方法を調べてください, エレクトロニクス製造の品質と効率を確保します.

  13. DNAシーケンスにおけるUVレーザーの役割を発見します, 遺伝的研究における感度と信頼性の向上.

  14. UVレーザーがシリコンウェーハ処理を強化する方法を学びます, チップ製造とパフォーマンスの向上につながります.

  15. 効率は、出力を最大化し、廃棄物を最小化するための鍵です. レーザー効率を改善するための詳細な計算と方法を発見します.

  16. さまざまなアプリケーションで355nmの光電力の重要性について学ぶ, レーザー技術の知識を強化します.

  17. レーザー性能を最適化し、損傷を防ぐためには、熱生成を理解することが重要です. 詳細な洞察については、このリンクを調べてください.

  18. レーザーの安定性を維持するためには、水冷システムが不可欠です. クリックして、高出力アプリケーションでパフォーマンスを向上させる方法を確認します.

  19. 正確な熱負荷計算正しいチラーが選択されていることを確認してください, 過熱を防ぎます. ここで詳細な方法とヒントを発見してください.

  20. 冷却能力を理解することは、最適なレーザー性能と寿命に重要です. このリンクを調べて、その重要性について詳しく知ります.

  21. 安全マージンは、予期しない熱負荷から機器を保護します, 信頼性の向上. クリックして、これがチラーの選択に不可欠な理由を確認してください.

  22. 自動水補充システムについて学ぶことは、チラーの運用とメンテナンス効率に関する知識を高めることができます.

  23. R410Aの利点を調査することで、その環境への影響と冷却システムの効率性についてお知らせします.

  24. この変換率を理解することは、高出力レーザーの熱管理を最適化するために重要です, 効率と長寿を確保します.

  25. 効果的な熱管理は、レーザー性能を維持し、損傷を防ぐために不可欠です, このリソースをユーザーにとって不可欠にします.

  26. これらのチラーを探索すると、高出力レーザーに最適な冷却ソリューションを選択するのに役立ちます, パフォーマンスと安定性の向上.

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